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Estudio de la oxidación fotocatalítica de soluciones fenólicas, aplicando un proceso avanzado de oxidación (H2O2 / UV)

Ingenium

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Title Statement Estudio de la oxidación fotocatalítica de soluciones fenólicas, aplicando un proceso avanzado de oxidación (H2O2 / UV)
 
Added Entry - Uncontrolled Name López, Gustavo Adolfo; Universidad Santiago de Cali.
García, Roberto; Universidad Santiago de Cali
Orduña, Julieth; Universidad Santiago de Cali
 
Uncontrolled Index Term Fenol; degradación; procesos de oxidación avanzada.
 
Summary, etc. <p class="TextoAbstract"><span lang="ES-CO">En este trabajo se estudió la degradación de soluciones fenólicas a escala planta piloto, mediante el uso de H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>/UV (luz solar), utilizando un Colector Parabólico Compuesto (CPC). Se analizó el efecto de variables como pH, concentración de fenol y de peróxido de hidrógeno, tiempo de irradiación, sobre los parámetros ambientales DBO, DQO, COT, y remoción de fenol. Se optimizaron algunas variables para obtener la mayor remoción de fenol, el pH fue de 3.5, relación optima entre agente oxidante y el fenol 130 P/F, el tiempo de degradación del fenol 50 minutos, mientras que para alcanzar la mineralización completa 7 horas. Se obtuvieron remociones de fenol mayores al 96%, remociones en DQO y DBO de 41% y 83.6% respectivamente, la mineralización en términos del porcentaje de remoción de COT fue del 86%. </span><span lang="ES-CO">Los resultados obtenidos permiten plantear este estudio como una potencial técnica de tratamiento de residuos orgánicos de laboratorios químicos, por su bajo costo, fácil puesta en marcha y alta degradación de compuestos persistentes.</span></p>
 
Publication, Distribution, Etc. Universidad Santiago de Cali
2012-08-31 17:48:45
 
Electronic Location and Access application/pdf
http://revistas.usc.edu.co/index.php/Ingenium/article/view/55
 
Data Source Entry Ingenium; Vol 6, No 12 (2012)
 
Language Note es
 
Terms Governing Use and Reproduction Note El contenido de la revista tiene licencia Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License.